25,679.78
-245.87
(-0.95%)
25,784
+77
(+0.30%)
高水104
8,644.81
-111.51
(-1.27%)
4,827.19
-112.65
(-2.28%)
2,623.33億
4,078.64
-7.70
(-0.188%)
4,758.21
-12.74
(-0.267%)
14,830.46
-165.29
(-1.102%)
2,778.14
-4.90
(-0.18%)
76,208.0600
-1,163.2600
(-1.503%)
雷亞電子
  • 3.160
  • -0.240
  • (-7.059%)
  • 最高
  • 3.330
  • 最低
  • 3.101
  • 成交股數
  • 1.47萬
  • 成交金額
  • 3.31萬
  • 前收市
  • 3.400
  • 開市
  • 3.330
  • 買入
  • 3.070
  • 賣出
  • 3.200
  • 市值
  • 3.34百萬
  • 貨幣
  • USD
  • 交易宗數
  • 207
  • 每宗成交金額
  • 160
  • 波幅
  • 19.945%
  • 交易所
  • NASDAQ
  • 1個月高低
  • 52周高低
  • 市盈率/預期
  • 0.10/11.33
  • 周息率/預期
  • --/--
  • 10日股價變動
  • -32.131%
  • 風險率
  • 1,844.859
  • 振幅率
  • 7.452%
  • 啤打系數
  • 1.055

報價延遲最少15分鐘。美東時間: 28/04/2026 13:29:45
紅色閃爍圓點標示當前所處的交易時段。

23/04/2026 22:42

美股動向 | 台積電2029年前拒用ASML頂級光刻機

  《經濟通通訊社23日專訊》台積電(US.TSM)副共同營運長兼全球業務資深副總裁張曉強於2026年北美技術論壇上向媒體表示,台積電目前沒有計劃將荷蘭半導體設備巨頭ASML(US.ASML)最新一代高數值孔徑極紫外光光刻機投入晶片量產,相關決定至少維持至2029年以後。張曉強形容該設備「非常、非常昂貴」,單台定價逾3.5億歐元(約4.1億美元),是現行設備中造價最為高昂的半導體製造裝備。

 

  台積電雖已採購少量High-NA EUV設備,但目前僅作研發用途,並無任何量產部署安排。張曉強同時宣布,台積電最先進的A13制程晶片將於2029年正式投產,並強調在不動用High-NA EUV的情況下,現有低NA EUV設備仍可充分延伸技術壽命,進一步壓縮電晶體體積,達成性能躍升目標。台積電為阿斯麥最大單一客戶,此番明確表態無疑為其商業化路線圖增添了不確定性。(kk)

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