普達特科技(00650)一台爐管設備通過客戶驗收，一台正驗證

　　普達特科技(00650)公布，一台12英吋LPCVD爐管設備成功通過客戶驗收，該設備應用於LP-SiN薄膜沉積工藝。此外，另一台12英吋ALD爐管設備在客戶端處於驗證過程中，該設備應用於ALD-SiN/ALD-SiCN薄膜沉積工藝，兼容Thermal/Plasma模式。

　　另外，該集團指，已完成開發用於14/7nm節點的Low-KALDSiOCN爐管設備，用於滿足大規模集成電路對高性能絕緣層的需求，目前該設備仍由海外設備商壟斷。此外，該集團半導體單片清洗設備亦持續擴大客戶基礎與量產經驗。自去年10月至今，已有5台6至12英吋CUBE單片清洗設備成功於多家高質量客戶處通過驗收。
《經濟通通訊社25日專訊》